学校（光刻机）（曝光机）（蚀刻机）装卸搬运（移入移出运输）
2020-12-21 来自: 亚瑟半导体设备安装（上海）有限公司 浏览次数:320
近日Arthur观察到，实验室搬迁北方华创(Naura)官方宣布，学校（光刻机）（曝光机）（蚀刻机）装卸搬运（移入移出运输）ICP等离子刻蚀机第***0腔交付仪式近日在北京亦庄基地举行，NAURA刻蚀机研发团队见证了这一历史性时刻。这不仅是公司发展征程中的重要里程碑，更是国产刻蚀机在历经了20年自主创新后得到客户广泛认可的重要标志，未来会持续在等离子刻蚀ICP技术领域寻求更多突破。北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年，由北京七星华创电子股份有限公司、北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成，是目前国内集成电路工艺装备的企业。实验室搬迁
北方华创成立后就开始组建团队钻研刻蚀技术，2004年设备成功起辉，2005年8英寸ICP刻蚀机在客户端上线，并于2007年获得***科学技术进步二等奖。 半导体设备搬运
目前，北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、LED、封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域，硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂。其中，12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。 半导体设备搬运
——刻蚀：芯片制造中的关键工艺之一
刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀，湿法刻蚀各向异性较差， 半导体设备搬运而干法刻蚀是目前主流的刻蚀技术，其中以等离子体干法刻蚀为主导。所谓等离子体干法刻蚀，就是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术，具有良好的各向异性、工艺可控性，广泛应用于微电子产品制造领域。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体。等离子体刻蚀设备包括电容性等离子体刻蚀设备（CCP, Capacitively Coupled Plasma）和电感性等离子体刻蚀设备 半导体设备搬运（ICP, Inductively Coupled Plasma）。CCP刻蚀设备主要应用于刻蚀氧化物、氮化物等硬度高、需要高能量离子反应刻蚀的介质材料，ICP刻蚀设备主要应用于刻蚀单晶硅、多晶硅等材料。刻蚀作为半导体制造的关键工艺之一，根据SEMI统计，刻蚀设备约占晶圆制造设备价值量的24%左右。刻蚀设备市场的行业集中度较高，目前，半导体刻蚀设备的主要供应商为泛林半导体实验室搬迁（Lam Research）、东京电子（TEL）、应用材料（AMAT）三家，而Lam Research占据刻蚀设备市场的半壁江山。根据Gartner数据显示，2019年刻蚀设备市场约为115亿美元，其中Lam Research独占52%的市场份额，TEL和AMAT分别占据20%和19%的市场份额。 半导体设备搬运
近年来，随着国内芯片制造行业的兴起，中国大陆半导体设备需求市场快速增加。由于美国对中国半导体企业的进一步封锁，国内企业如中芯、实验室搬迁长江存储等在今年加大了对半导体设备（尤其是海外厂商）的采购，亚化咨询预计，2020年中国大陆半导体设备市场将突破160亿美元，刻蚀设备市场将达到25亿美元。 半导体设备搬运