***搬运搬运打包运输《光束离子束显微镜》

按照摩尔定律揭示出来的半导体行业规律，***搬运搬运打包运输《光束离子束显微镜》认为实际上，有一天半导体行业都会停滞的，所有的半导体行业只要能够坚持下去，都会达到同一个终点，虽然不是“弯道超车”。因为芯片制造是有技术瓶颈的，荷兰ASML公司就说了，他们制造出来的13.5纳米波长的极紫外光光刻机，制造出来的晶体管，栅极的极限长度就是1.5纳米；即使后面光源的波长再短，但是晶体管会漏电，一旦漏电就会短路，芯片就报废了。精‌密‍设‌备‍搬‌运‍l 新的一次技术“革命”在20年前，摩尔定律就曾经失效过一次，当时光刻机制造大佬不是荷兰的ASML，而是日本的尼康和佳能，ASML还在抱飞利浦的大腿呢！那时候的光刻机使用的光源是193纳米的深紫外光，尼康和佳能的想法是继续缩短波长，达到157纳米的长度。这时候，摩尔定律就是失效了，193纳米到157纳米所带来的性能提升，根本不够研发成本，亏本了。还是台积电的林本坚站出来说了一句：水的折射率比空气大，如果在镜头和晶圆之间注水，那么这种新的193纳米的浸润式光刻技术能满足摩尔定律。这是半导体行业的一次技术“革命”，倒下了日本的尼康精‌密‍设‌备‍搬‌运‍和佳能精‌密‍设‌备‍搬‌运‍，台积电和荷兰ASML从此奠定了行业“霸主”的地位，当时摩尔定律可没那么容易“打发”，投入了那么多的资金去研发浸润式技术和制造浸润式光刻机，生产出来的芯片要卖给谁？没错，就是国内的市场，如果没有国内每年两万亿人民币的市场在吃撑，摩尔定律还是要失效，这是中国的底牌，一旦国内不买芯片，老美发展了几十年的芯片技术，投入的研发费用，一下就要“破产”，被一波“做空”。他敢试试？国内要实现“弯道超车”的关键就是技术，但这个技术不是光刻技术，也不是光刻机制造技术，而是材料技术。国内为什么做不出光刻机，是没有那个技术吗？错，是没有那个材料，光刻很精细，其中对于精密机床的要求很高，要快准狠，高速运作时，偏差***可控，但是“臣妾做不到”，德国、日本、瑞典做到了，因为在机床的轴承处有一种材料，就是这种材料起作用。国内也不需要在其他材料上有所突破，从晶体管的发展历史中可以看到，一开始是晶体管，现在是硅晶体管，那以后呢？果能找到一种新的材料，那么“弯道超车”指日可待，甚至能够降低对光刻机的要求，不能荷兰ASML的顶级光刻机，都可以实现跟5nm（纳米）同等性能的芯片。幸运的是，国内真的找到了这种材料，那就是碳，并且做出了两种晶体管。中科院利用是石墨烯微观层面“狄拉克点”的存在，使得石墨烯具有电子通道，具有电子学性质，制造出了-石墨烯-硅晶体管，这是一种全新的晶体管，同样尺寸的晶体管，中科院研究出来的这种新型晶体管的性能是很优越的。北京大学的彭练矛团队最近几年一直在研究新型的芯片材料，终于制造出了碳纳米管，并且用作计算机的基本运算单元，碳基芯片成为可能，同样也是性能优越。中科院和北京大学真的是厉害，制造出了新的材料，这有可能引起半导体行业新的一次“变革”。而且是专属于中国的，外国人学不来，为什么？因为他们已经在硅材料上投入了大量的设备、人力，阵前易帅，之前的投入不就“打水漂”了吗？而且这种新的技术对于他们而言，没有必要，对于国内却很迫切，国内刚刚起步，投入不大，阵前易帅是可以的，国外就不行，说不定采用新材料所提升的性能都不够研发费用的。这两种新型的材料，还是北京大学的比较有前途，因为中科院突破的这个难题，-石墨烯-硅晶体管，锗太稀有了，石墨烯量产困难，碳纳米材料。当然目前都停留在了实验室制取的过程，什么时候实现工业化量产还不好说。但未来可期，不是吗？精‌密‍设‌备‍搬‌运‍的亚瑟问道