精密设备搬运目前台积电实现了5nm,4nm等芯片的稳定量产,而三星在今年6月底就成功进入3nm量产状态。台积电也会按照计划,在下半年进入3nm量产。不过4nm,3nm不是芯片制程的终点,摩尔定律还没有就此结束,在3nm以下还能实现更精密设备搬运的2nm。
而ASML新一代的High-NA EUV 光刻机会成为生产2nm芯片的关键设备。自从ASML研制High-NA EUV 光刻机以来,进度远超想象。今年7月份ASML透露收到了机械投影,光源以及晶圆载物台等核心元器件。这意味着供应商已经在配合ASML的生产需要,积极供货。就在9月底,ASML进一步传来消息,正式官宣明年向客户交付首台High-NA EUV 光刻机。这台光刻机最高或可生产1nm芯片,当然,最终能否造得出来,还得看芯片制造商的技术。
ASML还说过,已经拿到了5台High-NA EUV 光刻机的预付订单。但ASML并没有透露这些客户的信息。虽然不难猜测英特尔,三星和台积电会精密设备搬运High-NA EUV 光刻机,可是其它半导体公司也会采购High-NA EUV 光刻机用于研究用途。而且英特尔,三星和台积电这三大巨头一时半会还无法造出2nm芯片,所以明年获得High-NA EUV 光刻机精密设备搬运订单的客户,未必会拿来生产芯片。