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光束离子-显微镜》装卸搬运

2021-01-31  来自: 亚瑟半导体设备安装(上海)有限公司 浏览次数:263

光束逻辑芯片制造工艺光束离子-显微镜》装卸搬运需要使用EUV设备,未来美光、SK海力士等存储芯片大厂在量产DRAM时也将采用EUV设备精‌密‍设‌备‍搬‌运‍

半导体精‌密‍设‌备‍搬‌运‍专家Arthur指出,存储器主要分为两种:一种是DRAM,另一种是3D NAND。3D NAND目前的竞争主要集中在层数上,虽然也需要线宽的微缩化,但需求不那么迫切。而DRAM存储器则不同,如果做到1z(12~14nm)以下,就有可能需要用到EUV光刻机。届时,
存储器厂商订的EUV设备将有大的爆发
精‌密‍设‌备‍搬‌运‍悉,三星电子目前已经尝试将EUV应用于1z DRAM的生产当中。2020年8月,三星电子宣布在平泽工厂新建的第二座生产线开始生产16Gbit LPDDR5移动DRAM。三星电子采用EUV生产的第四代10纳米级别的DRAM晶圆出货量达到***万个。
在内存业内,目前的代际划分是1x、1y、1z、1α和1β。SK海力士表示,正在为使用EUV的DRAM的大规模生产做准备。SK海力士计划从2021年起将EUV应用于1αDRAM,2022年将EUV应用于1βDRAM。SK海力士规划升级M14晶圆厂的设备,同时在即将启用的新厂——M16晶圆厂中安装EUV光刻系统。
美光精‌密‍设‌备‍搬‌运‍也在布局对EUV的使用。有消息称,美光正在寻找管理EUV设备的工程师。美光科技高级副总裁兼移动产品事业部总经理拉杰·塔鲁里认为,是否采用EUV考量的关键在于芯片生产的成本和效率。

“我们现在使用的多重图形曝光技术相比使用EUV在成本和效率上的优势更加明显。现在我们已经推进到1α节点,我们觉得做到1β、1γ节点,现有的多重图形曝光技术在成本上都会更加有优势。但是在1γ之后,我们有可能会尝试采用EUV。我们会进行成本效率分析,如果证明成本效率更优就会考虑采用。当然,前期我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。”精‌密‍设‌备‍搬‌运‍的亚瑟如是说


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