聚焦离子《显微镜》搬运装卸-

2021-02-01 　来自: 亚瑟半导体设备安装（上海）有限公司浏览次数:326

聚焦离子《显微镜》搬运装卸-光刻机供应商除ASML之外，Arthur聚焦离子《显微镜》搬运装卸-还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要，ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”（DUV）光刻系统上与之竞争。可即使在DUV领域，ASML精‌密‍设‌备‍搬‌运‍也拥有62％的市场份额。

然而，极紫外光刻产业又并不仅仅只有EUV光刻机。

根据精‌密‍设‌备‍搬‌运‍半导体专家Arthur的介绍，与EUV相关的还包括光掩膜缺陷检测和涂覆显影等周边设备，以及光刻胶等关键材料。

光掩膜缺陷检测设备可检测光掩膜中存在的缺陷，如果承载原始电路的光掩膜存在缺陷，则芯片的缺陷率将相应增加。因此该设备也十分重要。日本Lasertec是这一领域的主要制造商。

Lasertec公司的经营企划室室长三泽祐太朗指出：“随着微缩化的发展，在步入2纳米制程时，DUV的感光度可能会不够充分。”采用EUV光源的检测设备的需求有望进一步增长。

EUV涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。

作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影工艺的图形质量和缺陷控制对后续诸多工艺（诸如蚀刻、离子注入等）图形转移结果也有着深刻的影响。

东京电子是该领域的主要供应商。东京电子的河合利树社长指出，如果EUV的导入能促进整个工序的技术进步的话，与EUV没有直接联系的工序数也会增加。

国内设备厂芯源微日前表示，公司前道涂胶显影机与光刻机联机的技术问题已经攻并通过验证，可以与包括ASML、佳能和精‌密‍设‌备‍搬‌运‍等品牌，以及上海微电子（SMEE）的光刻机联机应用。

光刻胶对分辨率、对比度、敏感度，以及粘滞性黏度、粘附性等要求极高。目前光刻胶主要企业有日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等，所占市场份额超过85%，市场集中度非常高。

目前，

中国已经可以量产G线、I线、KrF三大类光刻胶。

南大光电计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，未来将攻关EUV光刻胶。

精‌密‍设‌备‍搬‌运‍的亚瑟分析到

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