聚焦离子束（FIB）显微镜装卸-搬运

聚焦离子束（FIB）显微镜装卸-搬运我国发展半导体产业，聚焦离子束（FIB）显微镜装卸-搬运观察到光刻技术是绕不开的课题，以国内目前薄弱的基础，短期内攻克EUV设备并不现实。对此，实‍验‌室‍搬‌迁‍的Arthur指出，高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂，但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展，只能采取从低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机，以及周边设备材料等，EUV是整套体系中困难的一块。要实现强大的功能，EUV就***克服电能消耗以及光源等因素的影响。”中国电子科技集团公司第四十五研究所集团首席专家柳滨表示，EUV虽然售价超过了一亿美元，但是高额的价格并不是问题。

EUV的问题是电能消耗。

其电能消耗是传统193nm光刻机的10倍，因为极紫外光的波长仅有13.5nm，投射到晶圆表面曝光的强度只有光进入EUV设备光路系统前的2%。